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超濾裝置![]()
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一◕╃·₪、超濾膜元件規格說明 1.超濾膜元件的膜材料
2.淨水膜元件的規格屬性
3.建議膜元件的設計流量
注││:以上資料僅供參考╃↟│▩。 4.元件使用條件和清洗方法
以上資料僅供參考╃•◕,測試條件為││:25oC, 0.12MPa╃↟│▩。 清洗應在超濾膜沒有造成嚴重汙染之前進行╃•◕,這樣很容易使膜的通量恢復到初始狀態╃•◕,清洗的時間間隔一般以現場原水的試驗為依據╃↟│▩。 二◕╃·₪、超濾膜尺寸圖 3‐4040 外形尺寸 3‐5060 外形尺寸 3‐8060 外形尺寸 三◕╃·₪、超濾執行示意圖 一般情況下╃•◕,反洗和氣擦洗系統對CMF系統是必需的;通常還配備一個殺菌劑加藥系統以控制微生物等繁殖對超濾膜的影響;而分散化學清洗系統則在水質較差時配備╃↟│▩。 1.反洗系統 反洗系統包括反洗水箱◕╃·₪、反洗水泵及次氯酸鈉加裝置╃↟│▩。 反洗水箱 超濾反洗用水一般採用超濾產水╃•◕,故可以不另設單獨的反洗水箱╃•◕,而採用超濾的產水箱╃↟│▩。 反洗水泵 超濾由於採用頻繁的反洗技術╃•◕,故應單獨設定反洗水泵╃↟│▩。反洗水泵引數可以按以下選取││: 1)流量││:膜元件反洗通量可以按 150~200L/m2.h╃•◕,摺合成膜元件流量後乘以單套裝置元件數量即可; 2)揚程││:一般取 10~20 mH2O; 3)泵的過流材質應為不鏽鋼╃↟│▩。 次氯酸鈉加藥裝置 為抑制膜元件內細菌滋生╃•◕,可以單獨設定該加藥裝置╃↟│▩。加藥有兩種方式││:一 種 是 在 進 水 中 連 續 加入1~5ppmNaClO ╃•◕, 另 一 種 是 在 反 洗 水 中加入10~15ppmNaClO╃↟│▩。次氯酸鈉加藥裝置含以下裝置││: 1)加藥箱││:一般按一晝夜以上的藥品貯存量╃↟│▩。加藥箱配低液位開關╃•◕,低液位報警並停計量泵; 2)計量泵││:按加入反洗水中次氯酸鈉濃度10~15 ppm或按進水中加入1~5ppm 濃度來確定計量泵的流量╃•◕, 壓力大於 0.3 Mpa╃↟│▩。 2.化學分散清洗系統 對於水質比較差的原水╃•◕,建議在系統執行過程中增加化學分散清洗╃↟│▩。根據水質情況選擇酸或鹼洗裝置 之一╃•◕,或者二者均選用╃↟│▩。化學分散清洗系統裝置由加藥箱和計量泵組成╃↟│▩。 酸洗加藥裝置 超濾進水中可能含有鐵◕╃·₪、鋁等高價金屬的膠體或者懸浮物╃•◕,也可能存在硬度等結垢傾向╃•◕,這些雜質可 能造成超濾膜的無機物汙染╃↟│▩。在此情況下╃•◕,建議在化學分散清洗過程中加一定濃度的酸溶液進行化學分散 清洗╃•◕,所用的酸可根據具體原水水質情況選用鹽酸◕╃·₪、草酸或檸檬酸等╃↟│▩。 化學分散清洗酸加藥裝置含以下裝置││: 1)加藥箱││:應保證一晝夜以上的藥品貯存量╃↟│▩。加藥箱配低液位開關╃•◕,低液位報警並停計量泵; 2)計量泵(或採用流量更大的磁力泵)││:按加入浸泡水中酸的濃度(0.5~1%檸檬酸溶液◕╃·₪、0.5~1%草酸溶液 或 0.4%HCl 溶液)確定計量泵的流量╃•◕,壓力大於0.3 MPa╃↟│▩。 鹼洗加藥裝置 原水中的有機物是造成超濾膜汙染的重要原因╃•◕,為防止由有機物及活性生物引起的超濾膜元件的汙染╃•◕, 建議在化學分散清洗過程中加一定濃度的鹼進行化學分散清洗╃•◕,所用的鹼溶液推薦採用濃度為0.1% NaClO + 0.05 % NaOH溶液╃↟│▩。 化學分散清洗鹼加藥裝置含以下裝置││: 1)加藥箱││:一般按一晝夜以上的藥品貯存量╃↟│▩。加藥箱配低液位開關╃•◕,低液位報警並停計量泵; 2)計量泵(或採用流量更大的磁力泵)││:按加入浸泡水中鹼的濃度(0.1%NaClO + 0.05 % NaOH)確定計量泵的流量╃•◕,壓力大於 0.3 MPa╃↟│▩。當設定並使用該分散清洗加藥工藝後╃•◕,微生物等對膜的汙染可以得到控制╃↟│▩。 3.化學清洗系統 跨膜壓差比初始上升 1.0bar(在相同溫度下)╃•◕,且透過反洗不能恢復時就應對CMF連續超濾裝置進行清洗╃↟│▩。 清洗系統包括清洗溶液箱◕╃·₪、清洗水泵及清洗過濾器╃•◕,一般佈置於一個機架上╃↟│▩。該清洗為手動過程╃•◕,通 常採用手動配藥方式╃•◕,且需將待清洗裝置停機後進行╃↟│▩。 清洗溶液箱 配製貯存清洗液用╃↟│▩。容積可以按以下選定││:按膜元件水容積量計算出單套CMF連續超濾裝置元件的清洗液量╃•◕,加上清洗管道及清洗過濾器內清洗液的量╃•◕,再適當放上一些餘量╃↟│▩。 清洗水泵 1)流量││:按每支膜元件 1m3/h 流量計╃•◕,乘以單套裝置元件數量即可; 2)揚程││:一般取 30m H2O 左右; 3)泵的過流材質應為不鏽鋼╃↟│▩。 清洗過濾器 清洗過濾器流量可以按清洗水泵流量選取╃•◕,材質為不鏽鋼╃↟│▩。 4.壓縮空氣系統 採用氣擦洗技術可以大大提高超濾的反洗效果╃↟│▩。氣源要求無油壓縮空氣╃•◕,CMF連續超濾裝置最大進氣壓力2.5bar╃•◕,單支元件進氣量為5-12Nm3/h╃↟│▩。 5.CMF連續超濾裝置程控步序表 由於CMF連續超濾裝置每 30~60 分鐘需反洗一次╃•◕,故一般均為自動執行╃↟│▩。考慮到不同超濾系統的 進水水質差異較大╃•◕,具體的執行及清洗引數◕╃·₪、步序等宜根據現場除錯情況最終確定╃↟│▩。總的原則是╃•◕,當水質較差時╃•◕,增加反洗◕╃·₪、氣擦洗以及分散化學清洗的頻率╃↟│▩。 |